Temperatura površine mašine za vakuumsko oblikovanje mašine za oblaganje elektronskim snopom proporcionalna je intenzitetu elektronskog snopa

Temperatura površine mašine za vakuumsko oblikovanje mašine za oblaganje elektronskim snopom proporcionalna je intenzitetu elektronskog snopa

Temperatura površine filmova i mašinski obrađenih delova proporcionalna je intenzitetu elektronskog snopa. Intenzitet elektronskog snopa može se kontrolisati kontrolisanjem protoka struje do filamenta, čime se kontroliše površinska temperatura tankoslojnog materijala i mašinski obrađenih delova.

Mašina za vakuumsko oblikovanje Mašina za oblaganje elektronskim snopom prvo mora prethodno zagrijati filament

Kada uređaj za oblaganje elektronskim snopom radi, filament prvo treba prethodno zagrijati. Struja predgrijavanja filamenta je 60-90A, a vrijeme predgrijavanja je više od 20 minuta. Nakon što se filament zagrije, potencijalna energija elektrona u filamentu (katodi) raste u pripremi za emisiju elektrona. U tom trenutku, kada se uključi napon od 20KV]JI~ (2), filament (katoda) počinje da emituje elektrone pod dejstvom električnog polja. Pod kombinovanim delovanjem sistema za fokusiranje, otklona zavojnice i napona ubrzanja, elektroni koje emituje filament (katoda) skupljaju se u snop i emituju na filmski materijal ili deo koji se obrađuje veoma velikom brzinom.

Mjere za poboljšanje filmskog sloja opreme za vakuumiranje:

(1) Pecite nakon oblaganja. Nakon što je zadnji sloj filma obložen, nemojte odmah prestati sa pečenjem, već nastavite sa "kaljenjem" 10 minuta. Učinite strukturu filma stabilnijom.

(1) Vrijeme hlađenja se na odgovarajući način produžava i vrši se žarenje starenja. Smanjite termički stres uzrokovan prekomjernom temperaturnom razlikom između unutarnje i vanjske vakuumske komore.

(2) Tokom procesa isparavanja filma visoke refleksije i filter filma, temperatura podloge ne bi trebala biti previsoka, a visoka temperatura može lako stvoriti toplinski stres. I negativno utječe na optičku stabilnost titan oksida, tantal oksida i drugih filmskih materijala.

(iii) Proces nanošenja premaza uz pomoć jona za smanjenje naprezanja.

(iv) Odaberite odgovarajući filmski sistem koji će odgovarati, podudaranje između prvog sloja filmskog materijala i podloge. (Na primjer, petoslojni antirefleksni film usvaja Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2; ZrO2 također može koristiti SV -5 (miješani filmski materijal ZrO2 TiO2) ili drugi miješani filmski materijal s visokim indeksom prelamanja.

(V) Odgovarajuće smanjiti brzinu isparavanja (Al2O3-2.5A/S; ZrO2-3A/S; MgF2-6A/S referentna stopa)

(vi) Svi oksidni filmski materijali su punjeni kisikom i reaktivno obloženi, a količina unosa kisika se kontrolira prema različitim filmskim materijalima.

www.superbheater.com